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日本HORIBA 液體質(zhì)量流量計(jì)STEC LF-F20M/F30M/F40M-A-EVD1
簡(jiǎn)要描述：日本HORIBA液體質(zhì)量流量計(jì)STECLF-F20M/F30M/F40M-A-EVD1MKS640A-30383質(zhì)量控制器range100psl真空計(jì)流量計(jì)nikon光刻機(jī)reticlestage電機(jī)TomaxTC214005GBLG129
產(chǎn)品型號(hào)：- 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間：2025-09-17
- 訪 問 量：986
日本HORIBA 液體質(zhì)量流量計(jì)STEC LF-F20M/F30M/F40M-A-EVD1
MKS640A-30383質(zhì)量控制器range100psl真空計(jì)流量計(jì)
nikon光刻機(jī)reticle stage電機(jī)Tomax TC214005G BLG1 29.6
MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器
尼康NIKON光刻機(jī)CPCR-0101-NQIC帶質(zhì)保電源現(xiàn)貨供應(yīng)
HELIX REMOTE DISPLAY MODUIE CTI BROOKS遠(yuǎn)程顯示器模塊控制CT8
日本Horiba流量計(jì)SEC-310N濕法pecvd刻蝕MKS流量計(jì)640A-14312
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HORIBA品牌IV-2410AV注射閥 INJECTION VALVE
日本HORIBA堀場(chǎng) MFC 液體質(zhì)量流量計(jì) lf-a40m-a-evd
松下電機(jī)Panasonic MFA030HA2NSK原裝功能可維修
美國(guó)MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計(jì)1480A控制器
MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器
MKS美國(guó)649B氣體質(zhì)量流量計(jì)1480A控制器
深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司成立于，是國(guó)內(nèi)專業(yè)的流量計(jì)服務(wù)商。致力于進(jìn)口質(zhì)量流量計(jì)、壓力傳感器等壓力測(cè)量器件的校準(zhǔn)、維修及*。其技術(shù)*、高可靠性及誠(chéng)信使其成為行業(yè)的，是專業(yè)的MFC技術(shù)服務(wù)商。
專門經(jīng)營(yíng)進(jìn)口氣體質(zhì)量流量計(jì)銷售，全套校準(zhǔn)證書，一年質(zhì)保期。
本公司專業(yè)銷售質(zhì)量流量計(jì)近40年，具有豐富的銷售和售后服務(wù)經(jīng)驗(yàn)，我們有專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)和專業(yè)工程師對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行跟蹤服務(wù)。
具體產(chǎn)品參數(shù)，價(jià)格請(qǐng)?jiān)儍r(jià)，請(qǐng)聯(lián)系張經(jīng)理
本公司主要經(jīng)營(yíng)的品牌有：
HORIBA
MKS
BROOKS
UNIT
AERA
MKS
MYKROLIS
MILLIPORECTI BROOKS遠(yuǎn)程顯示器模塊控制OB8 iso200接口現(xiàn)貨
SAM
STEC
美國(guó)MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計(jì)1480A控制器
流量計(jì)FC-2902VigiLJbTA 第二種辦法是順序執(zhí)行指令。一個(gè)程序由若干個(gè)程序段組成，每個(gè)程序段的指令可以設(shè)計(jì)成順序地存放在存儲(chǔ)器之中，所以只要指令地址寄存器兼有計(jì)數(shù)功能，在執(zhí)行指令的過程中進(jìn)行計(jì)數(shù)，自動(dòng)加一個(gè)增量，就可以形成下一條指令的地址，從而達(dá)到順序執(zhí)行指令的目的。這個(gè)辦法適用于以隨機(jī)存儲(chǔ)器作為主存儲(chǔ)器的計(jì)算機(jī)。當(dāng)程序的運(yùn)行需要從一個(gè)程序段轉(zhuǎn)向另一個(gè)程序段時(shí)，可以利用轉(zhuǎn)移指令來(lái)實(shí)現(xiàn)。轉(zhuǎn)移指令中包含了即將轉(zhuǎn)去的程序段入口指令的地址。執(zhí)行轉(zhuǎn)移指令時(shí)將這個(gè)地址送人程序計(jì)數(shù)器(此時(shí)只作為指令地址寄存器，不計(jì)數(shù))作為下一條指令的地址，從而達(dá)到轉(zhuǎn)移程序段的目的。子程序的調(diào)用、都用類似的方法。在隨機(jī)存取存儲(chǔ)器普及以后，第二種辦法的整體運(yùn)行效果大大地優(yōu)于*種辦法，因而順序執(zhí)行指令已經(jīng)成為主流計(jì)算機(jī)普遍采用的辦法，程序計(jì)數(shù)器就成為*處理器*的一個(gè)控制部件。
MKS354005-YD-T
Granville-PHillips真空計(jì) 275529-EU
1.型號(hào)：275529-EU
2 MKS390411-0-YE-T真空計(jì)GRANVILLE-PHILLIPS
3.非實(shí)價(jià)，議價(jià)！英福康真空計(jì)MKS354005-YD-T離子對(duì)撞壓力計(jì)MKS INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(jì)(中高真空計(jì))
INFICON 單臺(tái) Bayard-Alpert 熱離子計(jì) BAG302 的測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計(jì)BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設(shè)定點(diǎn)繼電器和對(duì)數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅(jiān)固的設(shè)計(jì)相結(jié)合，使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且可重復(fù)的過程，可作為自己的壓力測(cè)量?jī)x器的基礎(chǔ)，并提供高價(jià)值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計(jì)是下面列出的 MKS/GP 部件號(hào)的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
MKS系列 部件號(hào) 顯示 單位 輸出 法蘭型 燈絲 INFICON部件號(hào) 355 微離子® 355400-0-碼 不 托 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-葉-T 不 托 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355400-0-YK-T 不 托 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YF-T 不 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355400-0-YG-T 不 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355400-0-碼 不 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-葉-T 不 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-YK-T 不 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YF-T 不 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YG-T 不 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355400-0-碼 不 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-葉-T 不 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355400-0-YK-T 不 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YF-T 不 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355400-0-YG-T 不 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355600-0-碼 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355600-0-碼 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355600-0-碼 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355410-0-碼 不 托 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355410-0-葉-T 不 托 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355410-0-YK-T 不 托 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355410-0-YF-T 不 托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355410-0-YG-T 不 托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子® 354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
好處
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測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）
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兩種標(biāo)準(zhǔn)長(zhǎng)壽命氧化釔涂層銥絲
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一體化有源儀表，內(nèi)置顯示屏、設(shè)定點(diǎn)、模擬輸出和標(biāo)準(zhǔn)集成 RS485 數(shù)字接口
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明亮的數(shù)字 OLED 顯示屏，帶鍵盤，便于設(shè)置、操作和編程
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用戶可編程設(shè)定點(diǎn)繼電器
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用戶可編程顯示單位，單位為毫巴、托或帕
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用戶可選發(fā)射電流自動(dòng)量程
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機(jī)械強(qiáng)度和堅(jiān)固性
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多種法蘭選擇
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易于更換的傳感元件
合規(guī)性和標(biāo)準(zhǔn)：CE，RoHS
直接插入取代格蘭威-菲利普斯® 354微離子®模塊 - 相同的控制功能，包括軟件命令（RS485）（Granville-Phillips®和Micro-Ion®是MKS Instruments，Andover，MA的注冊(cè)商標(biāo)）
典型應(yīng)用
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半導(dǎo)體工藝和傳輸室中的壓力測(cè)量
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工業(yè)涂料
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低真空至超高真空范圍內(nèi)的一般真空測(cè)量和控制
英?？嫡婵沼?jì)CDG045D薄膜規(guī)0.01TORR 3CC9-S51-23G0 測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）
兩種標(biāo)準(zhǔn)長(zhǎng)壽命氧化釔涂層銥絲
一體化有源儀表，內(nèi)置顯示屏、設(shè)定點(diǎn)、模擬輸出和標(biāo)準(zhǔn)集成 RS485 數(shù)字接口
明亮的數(shù)字 OLED 顯示屏，帶鍵盤，便于設(shè)置、操作和編程
用戶可編程設(shè)定點(diǎn)繼電器
用戶可編程顯示單位，單位為毫巴、托或帕
用戶可選發(fā)射電流自動(dòng)量程
機(jī)械強(qiáng)度和堅(jiān)固性
多種法蘭選擇
易于更換的傳感元件
合規(guī)性和標(biāo)準(zhǔn)：CE，RoHS
直接插入取代格蘭威-菲利普斯® 354微離子®模塊 - 相同的控制功能，包括軟件命令（RS485）（Granville-Phillips®和Micro-Ion®是MKS Instruments，Andover，MA的注冊(cè)商標(biāo)）
典型應(yīng)用
半導(dǎo)體工藝和傳輸室中的壓力測(cè)量
工業(yè)涂料
低真空至超高真空范圍內(nèi)的一般真空測(cè)量和控制
英福康真空計(jì)CDG045D2復(fù)合規(guī)3CC5-651-238B
275400-1-GD-T（MKS）
355400-0-TD-T（MKS）
355001-TD（MKS）
SERIES355HOT CATHODE TRANSDUCER Granville-Phillips@355400-0-TD-T（MKS）
IGM401 （Instrutech）
CVM211GBA （Instrutech
- 深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司
- 富士金流量計(jì)Fujikin氣體控制器FCST1030LUC-4J2-F6L-N2
- Granville-Phillips®真空壓力計(jì)mks356036-YE-T現(xiàn)貨供應(yīng)
- Granville-Phillips® 真空壓力計(jì)
拍前請(qǐng)聯(lián)系店主 普發(fā)真空計(jì)PKR251 英?？?
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
瑞士INFICON PEG100潘寧真空計(jì)，這款堅(jiān)固的潘寧冷陰極電離真空計(jì)可準(zhǔn)確測(cè)量 1 x 10-2 毫巴到低至 1 x 10-9 毫巴的高真空壓力。 還有現(xiàn)場(chǎng)總線可供選擇。
PEG100潘寧真空計(jì) 的詳細(xì)介紹
INFICON PEG100潘寧真空計(jì)提供可靠的高真空測(cè)量。堅(jiān)固耐用的潘寧冷陰極傳感器不會(huì)出現(xiàn)單絲燒毀的現(xiàn)象。 由于采用鈦陰極板且等離子點(diǎn)火后高電壓將會(huì)降低，潘寧真空計(jì)還可在濺射應(yīng)用環(huán)境下運(yùn)行。 現(xiàn)場(chǎng)總線選件以及對(duì)數(shù)模擬輸出信號(hào)允許使用 Profibus DP 或 DeviceNet 協(xié)議，將真空計(jì)輕松集成到真空系統(tǒng)中。
PEG100潘寧真空計(jì)益處：
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測(cè)量范圍廣，從 1 x 10-9 至 1 x 10-2 毫巴（7.5 x 10-10 至 7.5 x 10-3 托）
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全金屬冷陰極傳感器（潘寧），帶陶瓷饋入裝置
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創(chuàng)新的電極幾何形狀提供***的點(diǎn)火屬性
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等離子點(diǎn)火后降低的高壓和鈦陰極板可減少污染危險(xiǎn)，即使在有氬氣的濺射運(yùn)行中
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陽(yáng)極環(huán)和鈦陰極可輕松進(jìn)行清潔或更換
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***小化真空計(jì)附近的磁場(chǎng)強(qiáng)度
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用于電源接通和等離子體點(diǎn)火的 LED 指示器
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對(duì)數(shù)模擬輸出信號(hào)
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現(xiàn)場(chǎng)總線接口（Profibus DP、DeviceNet）允許使用網(wǎng)絡(luò)通信將真空計(jì)輕松集成到真空系統(tǒng)中
PEG100潘寧真空計(jì)典型應(yīng)用：
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高真空壓力監(jiān)控
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蒸發(fā)濺射系統(tǒng)
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高真空范圍內(nèi)的一般真空測(cè)量和控制
PEG100潘寧真空計(jì)選型指南：
PEG100零件號(hào)說(shuō)明351-000 351-002 351-003 351-004 351-005
| 真空計(jì) |
| PEG100-P 規(guī)管 |
| PEG100D 型真空計(jì) |
| PEG100-D Penning Gauge; DN40CF-F |
| PEG100-P 規(guī)管 |
備件
PEG100零件號(hào)說(shuō)明351-490
| 陰極片 |
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